光學(xué)加工技術(shù)精選(九篇)

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第1篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

【關(guān)鍵詞】單點(diǎn)金剛車；快刀伺服；微透鏡陣列

0.引言

隨著科學(xué)技術(shù)和信息化的迅猛發(fā)展，紅外光學(xué)系統(tǒng)得到了飛速發(fā)展以及廣泛的應(yīng)用。紅外光學(xué)元件主要包括紅外晶體軟脆性材料光學(xué)元件和玻璃、碳化硅SiC等硬脆性光學(xué)元件，由于紅外晶體類光學(xué)元件在特定運(yùn)行條件下，晶體內(nèi)自發(fā)的Raman散射光通過表面時(shí)會(huì)得到放大。因此，晶體作為優(yōu)質(zhì)的光學(xué)材料，被較廣泛地應(yīng)用于紅外光電儀器等非線性光學(xué)領(lǐng)域。但由于晶體材料本身具有質(zhì)軟，易潮解，脆性高，對(duì)溫度變化敏感，易開裂的特點(diǎn)，因此晶體材料的加工周期很長(zhǎng)，而且非常難以加工。尤其光學(xué)元件被業(yè)界公認(rèn)為是最難加工的，隨著對(duì)光學(xué)性能指標(biāo)的要求不斷提高，傳統(tǒng)的光學(xué)元件加工方式已無(wú)法滿足高精度的晶體材料光學(xué)元件的加工要求。

而快刀伺服FTS（Fast Tool Servo）加工技術(shù)則是通過驅(qū)動(dòng)金剛石刀具產(chǎn)生高頻響，小范圍的快速精度進(jìn)刀運(yùn)動(dòng)，并配合高精度的主軸回轉(zhuǎn)和徑向進(jìn)給運(yùn)動(dòng)，來(lái)完成復(fù)雜面形零件的精密高效加工。這種加工方法具有高頻響，高剛度，高定位精度等特點(diǎn)，可以重復(fù)加工出具有復(fù)雜形狀的各種異形元件，一次加工即可獲得較高的尺寸精度，形狀精度和極佳的表面粗糙度，從而能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜光學(xué)面形的高效高精度加工。

1.技術(shù)特點(diǎn)

目前，準(zhǔn)分子激光加工微投透鏡的方法主要是準(zhǔn)分子與激光與動(dòng)態(tài)二元掩模法相結(jié)合（二元掩模法是指通過使用二元掩模制造微透鏡的方法。其主要加工特點(diǎn)為：（1）制造過程簡(jiǎn)單，（2）制造速度快，（3）制造成本低。但由于自身的特點(diǎn)，所以其本身也有加工上的缺點(diǎn)：制造出的微透鏡為非球面微透鏡。

而相對(duì)來(lái)說(shuō)，使用了單點(diǎn)金剛車的快刀伺服技術(shù)由于與有色金屬親和力好，其硬度、耐磨性以及導(dǎo)熱性都非常優(yōu)越，且刀具刃口極為鋒利，刃口半徑為0.5～0.01μm，同時(shí)可適用于加工非金屬材料。相對(duì)而言，使用了單點(diǎn)金剛車的快刀伺服技術(shù)生產(chǎn)效率更高，加工精度更高，重復(fù)性好，適合批量生產(chǎn)，加工成本比傳統(tǒng)的加工技術(shù)明顯降低。而且可實(shí)現(xiàn)球面和非球面的精密加工。

本文所探討的是基于單點(diǎn)金剛石車削的快刀伺服技術(shù)在微透鏡陣列加工的新型工藝研究。微透鏡是最重要的微光學(xué)元件之一，其幾乎被用于所有的微光學(xué)系統(tǒng)。目前對(duì)于微透鏡的定于較多，沒有形成統(tǒng)一的定義。通常所說(shuō)的微透鏡一般指尺寸微小的光學(xué)透鏡，其孔徑范圍一般為0.05～5mm。

目前傳統(tǒng)加工微透鏡主要有以下幾種方法：（1）模具法加工微透鏡；（2）研磨法加工微透鏡；（4）光刻法加工微透鏡；（4）掩模法加工微透鏡；（5）噴墨法加工微透鏡；（6）以及準(zhǔn)分子激光加工微透鏡。

單點(diǎn)金剛石車削（SPDT）是在計(jì)算機(jī)控制下采用天然單晶納米金剛石刀具，在對(duì)機(jī)床和加工環(huán)境進(jìn)行精確控制的條件下，直接車削加工出符合光學(xué)質(zhì)量要求的非球面光學(xué)零件。目前，采用單點(diǎn)金剛石車削技術(shù)可以加工的材料有：紅外光學(xué)晶體（單晶鍺，硒化鋅，硫化鋅，氯化鈉，氟化鈣晶體等），有色金屬，塑料等，上述材料均可以直接達(dá)到光學(xué)表面質(zhì)量的要求。此技術(shù)還可加工玻璃，鈦，鎢等材料，但目前還不能直接達(dá)到符合質(zhì)量要求的光學(xué)鏡面。采用單點(diǎn)金剛石車削技術(shù)加工的球面和非球面光學(xué)零件在軍用和民用光電產(chǎn)品上的應(yīng)用相當(dāng)廣泛，如攝影鏡頭和取景器，變焦鏡頭，電影鏡頭，光纖通信接頭等。

快刀伺服FTS技術(shù)可實(shí)現(xiàn)各種自由曲面的車削加工，如微棱鏡、透鏡陣列、環(huán)面以及小離軸量的（小于10mm量級(jí)）離軸非球面的加工。該方法能夠使制造組件的形狀精度和表面粗糙度控制在納米級(jí)的范圍內(nèi)。

要實(shí)現(xiàn)上述兩個(gè)關(guān)鍵特征指標(biāo)參數(shù)注定要采用基于快刀伺服工藝的超精密單點(diǎn)金剛鉆切削車床技術(shù)?？斓端欧庸ぜ夹g(shù)與與傳統(tǒng)的超緊密車床加工技術(shù)相比，最直觀的區(qū)別在于刀具切削過程中，刀具的運(yùn)動(dòng)軌跡額外附加了一個(gè)垂直與端面方向的高頻反復(fù)運(yùn)動(dòng)，此運(yùn)動(dòng)精確配合主軸的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)坐標(biāo)位置和被加工工件不同半徑設(shè)計(jì)輪廓來(lái)實(shí)現(xiàn)切削進(jìn)給，通過切削車床的C軸、Z軸、X軸和FTS數(shù)控高頻振蕩的4軸的聯(lián)動(dòng)來(lái)加工復(fù)雜微結(jié)構(gòu)。

2.技術(shù)路線

通過前期調(diào)研和課題探討，本文在工藝方面的探討主要兩個(gè)方向是：（1）表面形貌非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的微結(jié)構(gòu)陣列。（2）表面形貌成型的精度要求達(dá)到光學(xué)級(jí)。

相關(guān)的指標(biāo)參數(shù)為：非球面微透鏡陣列間隔為2.5mm；表面粗糙度小于40nmPa；面型小于50nmRMS；位置及高度公差小于1微米結(jié)合上述目標(biāo)以及相關(guān)指標(biāo)參數(shù)，考慮到單點(diǎn)金剛石車削SPDT和快刀伺服技術(shù)FTS各自技術(shù)特點(diǎn)，分析相關(guān)情況后，制定了以下的技術(shù)路線和工藝方案：

確定參數(shù)-計(jì)算圓周-刀具定義-確定參數(shù)-刀具路徑-檢測(cè)及報(bào)告

首先通過系統(tǒng)自帶的Diffsys軟件對(duì)零件進(jìn)行坐標(biāo)設(shè)定，并對(duì)陣列元表面進(jìn)行定義，確定加工材料所加工微透鏡陣列的參數(shù)；其次在機(jī)床系統(tǒng)軟件中對(duì)于微透鏡陣列上的面型進(jìn)行不同圓周率的精密計(jì)算；接著在軟件的計(jì)算過程中，對(duì)于使用的單點(diǎn)金剛石車刀的幾何形狀參數(shù)進(jìn)行詳細(xì)設(shè)定，例如：刀尖點(diǎn)半徑，刀尖形狀，刀尖后角等；然后通過內(nèi)置軟件，計(jì)算生成全加工路徑的3D模擬視圖，計(jì)算得出切削速度/加速度；在模擬驗(yàn)證完畢后，通過機(jī)床專用的后置處理，生成機(jī)床所能運(yùn)行的快速刀具加工路徑的NC代碼，傳輸導(dǎo)入機(jī)床后進(jìn)行安全高效的加工；最后加工完成后，使用先進(jìn)的白光干涉儀或共焦顯微鏡對(duì)表面進(jìn)行檢測(cè)，記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，輸出加工結(jié)果的檢測(cè)報(bào)告。

用于本文工藝探討的實(shí)驗(yàn)所使用的最主要裝備是：美國(guó)阿美泰克Nanoform700Freeform單點(diǎn)金剛鉆標(biāo)準(zhǔn)的五軸超精密計(jì)算機(jī)控制機(jī)床系統(tǒng)。所用整個(gè)機(jī)床的精度控制指標(biāo)是：車削性能：車削表面粗糙度小于2.5nmRa，車削形狀誤差小于0.15μmP-V。編程分辨率：0.01納米（直線）/0.0000001°（回轉(zhuǎn)）

3.微透鏡陳列加工與測(cè)試

本文利用美國(guó)阿美泰克Nanoform700Freeform單點(diǎn)金剛車結(jié)合快刀伺服技術(shù)進(jìn)行了多次切削加工實(shí)驗(yàn)，均獲得了較好的面形精度和表面質(zhì)量。下面就以所加工微透鏡陣列為例，進(jìn)行分析說(shuō)明：

透鏡陣列采用非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的微結(jié)構(gòu)陣列，透鏡表面為非球面，間隔為2.5mm，規(guī)劃好走刀路徑并選擇合適的工藝參數(shù)后，進(jìn)行單點(diǎn)金剛車的快刀伺服加工，實(shí)驗(yàn)結(jié)果采用白光干涉儀和共焦顯微鏡對(duì)表面進(jìn)行檢測(cè)，數(shù)據(jù)結(jié)果如圖5、圖6所示，透鏡的面型精度為RMS41.4nm，表面粗糙度為Pa32.8nm，位置及高度公差為Pt0.28μm，Smn為0.489mrad，均符合本文之前探討設(shè)定的指標(biāo)參數(shù)。

Pmma適用于光學(xué)透鏡的常用材料，有色金屬適用于可見光光學(xué)波段。

4.結(jié)論

通過相關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果表面，在實(shí)現(xiàn)復(fù)雜微結(jié)構(gòu)工件的精密加工方面，基于單點(diǎn)金剛石車削SPDT的快刀伺服加工技術(shù)在加工微透鏡陣列方面的測(cè)試案例為將來(lái)光學(xué)零件加工應(yīng)用方面提供了一個(gè)積極的信號(hào)和方向。

隨著復(fù)雜面形光學(xué)零件的應(yīng)用越來(lái)越廣闊，基于單點(diǎn)金剛車削SPDT的快刀伺服技術(shù)的超精密加工技術(shù)勢(shì)必具有非常廣闊的發(fā)展空間。

【參考文獻(xiàn)】

[1]王桐.準(zhǔn)分子激光光闌法加工微透鏡的工藝研究.

第2篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

近年來(lái)在國(guó)際光電產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移趨勢(shì)下，世界范圍內(nèi)的光學(xué)冷加工產(chǎn)能均大規(guī)模向中國(guó)轉(zhuǎn)移，中國(guó)成為繼臺(tái)灣之后全世界最大規(guī)模的光學(xué)冷加工產(chǎn)能承接地和聚集地。

中山市火炬開發(fā)區(qū)是光學(xué)企業(yè)的重要集中地，知名光學(xué)企業(yè)如鳳凰光學(xué)、舜宇光學(xué)、北方光電、波若威光纖等均在此落戶。據(jù)統(tǒng)計(jì)，開發(fā)區(qū)現(xiàn)代光學(xué)產(chǎn)業(yè)總產(chǎn)值每年占全區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)品總產(chǎn)值十分之一，從業(yè)人數(shù)約1.4萬(wàn)人。

1 我國(guó)光學(xué)冷加工人才培養(yǎng)的現(xiàn)狀

隨著光學(xué)應(yīng)用技術(shù)不斷拓寬，行業(yè)高質(zhì)量人才是否能跟得上就成了至關(guān)重要的問題。即使在經(jīng)濟(jì)形勢(shì)嚴(yán)峻的情況下，光學(xué)行業(yè)的許多領(lǐng)域卻仍然苦于人手不足，難以找到合適的人才。多年來(lái)，我國(guó)光學(xué)行業(yè)沿襲著一種不正常的觀念，即重視產(chǎn)品設(shè)計(jì)和研究的技術(shù)人員，而從事工藝設(shè)計(jì)和制造技術(shù)人員卻得不到足夠的重視。這樣，從事工藝科研的人員減少，從而影響了加工水平的提高。在我國(guó)，開設(shè)有光學(xué)專業(yè)的大專院校不少，但專門致力于培養(yǎng)具有扎實(shí)基礎(chǔ)的光學(xué)冷加工技術(shù)人才的卻少之又少。我院的光學(xué)加工與檢測(cè)專業(yè)正是基于這樣的形勢(shì)下開辦的。

光學(xué)加工專業(yè)是應(yīng)用型專業(yè)，強(qiáng)調(diào)實(shí)踐性。一方面光學(xué)零件涉及的材料種類多、口徑相差大、元件種類多，另一方面隨著光學(xué)應(yīng)用技術(shù)不斷拓寬，光學(xué)零件也不斷涌現(xiàn)出新品種、新加工技術(shù)、新標(biāo)準(zhǔn)，僅通過課堂的理論學(xué)習(xí)，學(xué)生思維難以拓展，不能適應(yīng)發(fā)展中的光學(xué)行業(yè)。針對(duì)這一現(xiàn)狀，我院緊緊圍繞光學(xué)企業(yè)對(duì)人才培養(yǎng)的需求，積極開展工作室教學(xué)法的探索與實(shí)踐。通過與企業(yè)共建光學(xué)冷加工工作室，不僅承擔(dān)培養(yǎng)學(xué)生的任務(wù)，還承接技術(shù)項(xiàng)目，并起到師資培養(yǎng)和企業(yè)技術(shù)人員培養(yǎng)的作用，真正實(shí)現(xiàn)企業(yè)、學(xué)校、社會(huì)、學(xué)生的互利共贏。

2 光學(xué)冷加工工作室建設(shè)

2.1 工作室的性質(zhì)

我院建立的光學(xué)冷加工工作室為系部下設(shè)的產(chǎn)學(xué)研合作創(chuàng)新機(jī)構(gòu)，既是學(xué)生實(shí)習(xí)實(shí)訓(xùn)基地，又是師生從事光學(xué)工藝研究、新產(chǎn)品開發(fā)等項(xiàng)目教學(xué)的工作室。

2.2 工作室的主要職能

工作室的首要職能是進(jìn)行學(xué)生的培養(yǎng)工作。工作室教學(xué)模式是以工作室為空間依托，以專業(yè)教師為主導(dǎo)，以輔助教學(xué)和承接技術(shù)項(xiàng)目為主要任務(wù)，由教師帶領(lǐng)學(xué)生完成生產(chǎn)技術(shù)項(xiàng)目，將產(chǎn)、學(xué)、研融為一體，最終使學(xué)生的綜合專業(yè)技術(shù)能力得到提高的一種教學(xué)模式。①在工作室教學(xué)中，學(xué)生是主體。②學(xué)生在教師指導(dǎo)下通過親身參與實(shí)踐的全過程，將學(xué)到的專業(yè)知識(shí)融會(huì)貫通并應(yīng)用于實(shí)踐中，從而提高分析問題和解決問題的能力。企業(yè)提供真實(shí)的光學(xué)零件訂單，學(xué)生從接到客戶圖紙開始，先進(jìn)行圖紙消化，再結(jié)合工作室實(shí)際設(shè)備、人員條件進(jìn)行工藝分析，設(shè)計(jì)工藝規(guī)程、工裝冶具，選擇合適的材輔料，并進(jìn)行實(shí)際生產(chǎn)與檢測(cè)。在實(shí)際生產(chǎn)過程中，對(duì)出現(xiàn)的各類問題，利用學(xué)過的專業(yè)知識(shí)，尋求解決問題的辦法，不斷提升學(xué)生技術(shù)水平。這樣對(duì)于“學(xué)”的一方，有利于縮短從書本知識(shí)到實(shí)踐應(yīng)用的距離，化解傳統(tǒng)教學(xué)中簡(jiǎn)單的單向授受關(guān)系，促成新型“自助式教育”，使靜態(tài)的傳授教學(xué)向動(dòng)態(tài)的參與教學(xué)轉(zhuǎn)化。③

光學(xué)冷加工工作室的職能很大程度上也體現(xiàn)在以下方面：

（1）實(shí)訓(xùn)基地和創(chuàng)業(yè)平臺(tái)。工作室的建設(shè)可為系部開拓更多的與產(chǎn)業(yè)高度對(duì)接的實(shí)訓(xùn)室和實(shí)習(xí)實(shí)踐場(chǎng)所，緩解系部和學(xué)院的高成本投入的問題。系部通過與企業(yè)共建、提供專業(yè)對(duì)口的人力資源、技術(shù)合作等合作手段，實(shí)現(xiàn)資源開放和共享，達(dá)到借助企事業(yè)單位的生產(chǎn)車間和研發(fā)設(shè)備（設(shè)施）搭建系部實(shí)訓(xùn)基地的目的。這些與產(chǎn)業(yè)高度對(duì)接的實(shí)訓(xùn)室和實(shí)習(xí)實(shí)踐場(chǎng)所，既可為學(xué)生將來(lái)走上職業(yè)崗位打下良好的理論和實(shí)踐基礎(chǔ)，也可為學(xué)生了解產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀、人才需求現(xiàn)狀、市場(chǎng)現(xiàn)狀等提供及時(shí)可靠的資訊，進(jìn)而培養(yǎng)學(xué)生的創(chuàng)業(yè)（下轉(zhuǎn)第191頁(yè)）（上接第183頁(yè)）意識(shí)和創(chuàng)業(yè)能力，提高學(xué)生的創(chuàng)業(yè)素質(zhì)。

（2）師資培訓(xùn)。工作室搭建的校企合作平臺(tái)，為系部教師提供了多樣化的實(shí)踐場(chǎng)所，系部可通過組織教師到企業(yè)參加生產(chǎn)活動(dòng)，提高教師的專業(yè)技能水平和實(shí)踐教學(xué)能力；可聘請(qǐng)企業(yè)的專業(yè)技術(shù)人員和技能人才對(duì)教師進(jìn)行專項(xiàng)培訓(xùn)，提高教師的專業(yè)水平；可通過參與企業(yè)的技術(shù)攻關(guān)、研發(fā)等工作，提高教師的研發(fā)能力和掌握行業(yè)核心技術(shù)的能力，從而打造一支有特色的雙師型教師隊(duì)伍。可以說(shuō)，工作室是系部的師資培訓(xùn)中心，是系部的教師培訓(xùn)資源庫(kù)。

（3）兼職教師資源庫(kù)。工作室開展的產(chǎn)學(xué)研工作，為系部兼職教師庫(kù)的建設(shè)提供了豐富的信息資源，系部可通過工作室聘請(qǐng)光學(xué)行業(yè)的專家學(xué)者、技術(shù)骨干和能工巧匠擔(dān)任兼職教師，打造“做中學(xué)、做中教”的人才培養(yǎng)方式,有利于人才培養(yǎng)模式走出傳統(tǒng)學(xué)科體系。

（4）專業(yè)建設(shè)、課程開發(fā)。工作室開展的技術(shù)與服務(wù)工作，是系部教學(xué)資源建設(shè)的重要組成部分，系部通過為企事業(yè)單位提供服務(wù)，可從企業(yè)那里獲得產(chǎn)業(yè)發(fā)展動(dòng)態(tài)、技術(shù)崗位標(biāo)準(zhǔn)、專業(yè)設(shè)置方向、課程內(nèi)容結(jié)構(gòu)、教育教學(xué)方式等方面的信息，不僅可以把系部的教學(xué)活動(dòng)和市場(chǎng)、生產(chǎn)、職業(yè)緊密聯(lián)系起來(lái)，還可使產(chǎn)業(yè)技術(shù)進(jìn)步對(duì)系部的教研教改發(fā)揮真正的導(dǎo)向作用，更可開啟系部專業(yè)規(guī)劃設(shè)計(jì)、課程體系構(gòu)建、教學(xué)方法和教學(xué)技術(shù)運(yùn)用等專業(yè)建設(shè)的新思路、新方法。可以說(shuō)，工作室是系部專業(yè)建設(shè)與區(qū)域經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展結(jié)合的紐帶，是課程開發(fā)與產(chǎn)業(yè)和職業(yè)對(duì)接的紐帶。

（5）光學(xué)加工相關(guān)職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)研究開發(fā)。作為職業(yè)院校，獲取相應(yīng)的職業(yè)資格證是衡量學(xué)生技能水平的一項(xiàng)重要指標(biāo)。但光學(xué)加工相關(guān)的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)和職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的現(xiàn)狀是還未建立或不完善。與光學(xué)加工相應(yīng)的職業(yè)工種，如光學(xué)零件檢查工、光學(xué)磨工、光學(xué)膠合工、光學(xué)真空鍍膜工等，在工種目錄中有工種代碼，但無(wú)相應(yīng)的職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。工作室成立后，積極整合各級(jí)資源，組織開展光學(xué)加工相關(guān)的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)和職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的建立與開發(fā)、職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)試題庫(kù)開發(fā)等工作，編寫與光學(xué)加工相關(guān)的職業(yè)技能鑒定培訓(xùn)教材等。目前，由工作室牽頭、聯(lián)合各企業(yè)共同編寫的《光學(xué)零件檢查工》、《光學(xué)真空鍍膜工》已通過機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)初審，后續(xù)將組織進(jìn)行全國(guó)專家評(píng)審。

第3篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

關(guān)鍵詞： 回歸分析；表面粗糙度；超精密加工；預(yù)測(cè)模型

中圖分類號(hào)：TH161 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1006-4311（2014）24-0034-02

0 引言

由于在對(duì)KDP這樣的軟脆單晶材料進(jìn)行研磨和拋光的加工過程中能夠十分便捷的嵌入晶體，但是卻很難采用精密拋光的方法從晶體表面去除雜質(zhì)，并且亞表層在拋光的過程中很容易造成損傷，這些雜質(zhì)或缺陷成為零件激光損傷的來(lái)源并且這對(duì)高功率激光的應(yīng)用是不能夠忍受的，因此，要想采用傳統(tǒng)的研磨和拋光方法將KDP晶體加工出超光滑表面具有一定的難度。目前，對(duì)此類零件進(jìn)行加工的時(shí)候，國(guó)內(nèi)外普遍采用單點(diǎn)金剛石切削（SPDT）的方式。由于采用“飛刀”的切削方式容易在加工表面形成刀痕而在晶體透射波前增加小尺度的周期擾動(dòng)。本次實(shí)驗(yàn)將重點(diǎn)研究已加工表面粗糙度受到切削速度（轉(zhuǎn)數(shù)）、背吃刀量以及進(jìn)給量（進(jìn)刀速度）等切削用量的影響。

1 因素水平編碼表的編制

因子xj（j=1，2，3）為坐標(biāo)軸構(gòu)成的空間稱為因子空間。在因子空間尋找能夠使表面粗糙度達(dá)到最小值的最優(yōu)解即尋找最優(yōu)化切削條件。本文采用了三因素二次回歸通用旋轉(zhuǎn)組合設(shè)計(jì)，表1為各個(gè)因素的水平編碼。對(duì)獨(dú)立變量z1、z2、z3進(jìn)行線性變換后，就建立起了n、f、ap與z1、z2、z3取值的一一對(duì)應(yīng)關(guān)系。

2 回歸系數(shù)的計(jì)算及回歸方程的求解

3 切削參數(shù)的優(yōu)選及實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證

由于采用解析法和通過大量實(shí)現(xiàn)來(lái)尋找表面粗糙度這一目標(biāo)函數(shù)最小切削參數(shù)的最佳組合既麻煩又不現(xiàn)實(shí)，因此，我們利用了MATLAB優(yōu)化軟件這個(gè)工具。由于在優(yōu)化KDP晶體超細(xì)精密加工表面粗糙度預(yù)測(cè)模型的時(shí)候，利用MATLAB優(yōu)化軟件不需要考慮加工效率，而只需要考慮約束條件，因此能夠迅速得到切削參數(shù)的最佳組合。經(jīng)計(jì)算優(yōu)選出的切削參數(shù)為：n=390r/min，f=10？滋m/r，ap=32？滋m。此時(shí)求得的KDP晶體超精密加工表面粗糙度最優(yōu)值為Ra=8.5611nm。

在上述條件下進(jìn)行加工的表面實(shí)際測(cè)量值Ra=7.37nm。從測(cè)量值和預(yù)測(cè)值的一致性我們可以認(rèn)為建立的預(yù)測(cè)模式是可靠有效的。

4 結(jié)論

由于本文采用回歸分析法建立的預(yù)測(cè)模型能夠通過較少的實(shí)驗(yàn)獲得大量的信息，因此具有較高的數(shù)學(xué)模型效率。此外，對(duì)于模型的切削參數(shù)還可以利用優(yōu)化軟件進(jìn)行優(yōu)化。但是，在對(duì)加工表面粗糙度進(jìn)行測(cè)量的時(shí)候，建立的預(yù)測(cè)模型受到隨機(jī)誤差的影響也會(huì)產(chǎn)生一定的誤差，因此，為了解決這個(gè)問題，除了在測(cè)量表面粗糙度的時(shí)候使用分辨率較高的儀器外，還對(duì)每個(gè)觀測(cè)值經(jīng)過多次測(cè)量后經(jīng)平均求得。

參考文獻(xiàn)：

[1]楊福興.激光核聚變光學(xué)元件超精密加工技術(shù)研究[J].光學(xué)技術(shù)，2003，29（6）：649-651.

[2]楊福興.KDP晶體超精密加工技術(shù)的研究[J].制造技術(shù)與機(jī)床，2003（9）：63-65.

第4篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

微模具是微注塑成型的核心，其機(jī)械精度直接決定了注塑件的質(zhì)量，而微模具的成本和壽命則是影響大批量注塑生產(chǎn)的關(guān)鍵因素，微注塑過程的模溫控制、排氣控制、塑件頂出等設(shè)計(jì)也與微模具結(jié)構(gòu)密不可分。

聚合物微成型技術(shù)是采用模塑成型方法高效率、高精度、低成本、批量生產(chǎn)聚合物微制品的成型技術(shù)，主要包括微注射成型技術(shù)、微熱壓成型技術(shù)和微擠出成型技術(shù)等。目前，對(duì)于聚合物微成型尚未形成統(tǒng)一的定義和分類，主要通過其成型的微制品進(jìn)行定義和分類。廣義上講，聚合物微制品包括以下3種類型：

（1）制品體積或質(zhì)量微小，整體尺寸小于 1mm，如微機(jī)械系統(tǒng)中使用的微齒輪、微透鏡、微螺栓螺母等。

（2）制品整體尺寸在毫米和厘米量級(jí)，但表面具有微細(xì)特征結(jié)構(gòu)，如光學(xué)、生化醫(yī)療領(lǐng)域使用的導(dǎo)光板、微光柵、微流控芯片、介入導(dǎo)管等。

（3）制品整體尺寸和特征尺寸均無(wú)限制，但局部尺寸精度在微米量級(jí)，如聚合物高精度非球面鏡片等。微成型模具是成型上述微制品的重要裝備，其設(shè)計(jì)的合理性和加工質(zhì)量直接決定了微制品的成型質(zhì)量。

聚合物微成型模具的型腔或流道尺寸跨越宏―微觀尺度范圍，受到尺度效應(yīng)的影響，成型過程中熔體的流動(dòng)、傳熱都與宏觀尺度下不同；對(duì)模具型腔的通氣、排氣、微小制品的脫模取件等有特殊要求，傳統(tǒng)的模具設(shè)計(jì)理論和方法在微成型模具設(shè)計(jì)中不再完全適用，因此微成型模具的設(shè)計(jì)已成為國(guó)內(nèi)外研究的熱點(diǎn)和難點(diǎn)。

微注塑成型模具的特點(diǎn)：近年來(lái)，關(guān)于微注塑模具制造技術(shù)的研究受到廣泛關(guān)注。一般認(rèn)為微模具應(yīng)符合以下特征：其應(yīng)用對(duì)象的整體尺寸或局部尺寸小于1mm；微模具微細(xì)尺寸從幾微米到幾百微米；微模具表面粗糙度值在0.1μm以下。隨著微加工和精密加工的發(fā)展，微模具的概念也不斷向前演變。目前，采用LIGA制造的微注塑模具已可用來(lái)生產(chǎn)質(zhì)量小于1mg或者局部結(jié)構(gòu)化面積只有幾平方微米的極微小型注塑制品。

微注塑成型模具制造技術(shù)：

1、微注塑成型模具組成。微注塑模具由模架部分和型芯組成，二者可以制作為一體，也可以分別加工，然后通過螺紋或過盈配合連接，稱為鑲塊式微模具。后者更有利于拆卸更換和零部件的重復(fù)利用，同時(shí)也能夠發(fā)揮不同加工方法的優(yōu)勢(shì)。對(duì)于鑲塊式微模具，其模架材料多選擇優(yōu)質(zhì)模具鋼，可以根據(jù)注塑機(jī)尺寸選定標(biāo)準(zhǔn)模架再加工，在模架上通常設(shè)置有熱流道、澆口、冷水道、真空排氣槽、頂出塑件機(jī)構(gòu)等。模架上不含要復(fù)制的微細(xì)結(jié)構(gòu)，采用機(jī)械加工方法就能滿足一般精度要求。鑲塊式微模具中，用于復(fù)制的微結(jié)構(gòu)部分鑲嵌在模架中，稱為型芯，有些文獻(xiàn)也稱之為鑲塊。微注塑工藝要求型芯尺寸精度高、耐高溫、耐沖擊、耐疲勞、并且能與模架機(jī)構(gòu)和特征位置相配合。根據(jù)型芯所用材料可以將微注塑型芯分為金屬微型芯和非金屬微型芯。

2、金屬材料微型芯加工。通?？紤]熱膨脹系數(shù)小、彈性系數(shù)大的材料作為制作微注塑型芯或整體模具材料。在微注塑起步階段，人們多選擇耐熱和耐沖擊的金屬材料制作整體模具或模具型芯，如鋼、鋁合金、鎳、鈹銅合金等。適用于這些材料的加工方法可分為去除材料成型和堆積材料成型。

微成型模具的精密制造是成型高質(zhì)量聚合物微制品的技術(shù)保證。傳統(tǒng)加工方法可以實(shí)現(xiàn)微成型模具部分零部件的加工，但難以加工具有微細(xì)三維結(jié)構(gòu)的成型零件，而微細(xì)加工技術(shù)為微成型模具微細(xì)結(jié)構(gòu)的加工提供了條件。微細(xì)加工技術(shù)是指制造微小尺寸制品或結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)加工技術(shù)，可以分為以下3種類型：3種類型：（1）在傳統(tǒng)加工方法上發(fā)展起來(lái)的微機(jī)械加工技術(shù)，如微車削、微銑削、微磨削技術(shù)等。（2）在特種加工方法上發(fā)展起來(lái)的微細(xì)特種加工技術(shù)，如微細(xì)電火花加工、微細(xì)電化學(xué)加工、微細(xì)高能束加工、微細(xì)電鑄加工、水射流微細(xì)切割技術(shù)等。（3）基于LIGA的加工技術(shù)如LIGA、UV-LIGA、電子束 LIGA 和激光 LIGA 技術(shù)等。微細(xì)加工技術(shù)的選擇主要取決于加工尺寸、表面質(zhì)量、深寬比和經(jīng)濟(jì)條件等。微成型模具存在跨尺度的幾何尺寸，局部特征尺寸微小，幾何精度和裝配精度要求極高，因此制造微成型模具關(guān)鍵零部件可能需要結(jié)合多種微細(xì)加工技術(shù)。

微注射成型模具制造技術(shù)：微型腔是微注射成型模具的核心零件，其結(jié)構(gòu)尺寸及精度在微米級(jí)，表面精度要求較高，微型腔的加工質(zhì)量直接影響制品的成型質(zhì)量，是微注射模制造的難點(diǎn)。對(duì)于微型腔的加工目前主要采用微機(jī)械加工技術(shù)、微細(xì)特種加工技術(shù)和基于 LIGA 的加工技術(shù)。

從微注塑成型模具角度綜述了微注塑成型模具設(shè)計(jì)和制造幾種策略和具體方法，對(duì)目前的微模具組成、微型芯加工方法及優(yōu)缺點(diǎn)進(jìn)行了歸納總結(jié)，對(duì)微模具設(shè)計(jì)要點(diǎn)進(jìn)行了分析。其結(jié)論如下：

1）微注塑模具與常規(guī)注塑模具主要差異在于加工方法、控溫方法、真空排氣、脫模方式等方面，采用鑲塊式微模具組合形式，有利于拆卸更換和零部件的重復(fù)利用，同時(shí)也能夠發(fā)揮不同加工方法的優(yōu)勢(shì)。微注塑模具結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的要求與常規(guī)注塑模具有諸多不同，重點(diǎn)集中在模溫快速變換、抽真空輔助排氣和微塑件脫模等幾個(gè)方面。

第5篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

1無(wú)掩膜電化學(xué)微/納米加工技術(shù)無(wú)掩膜電化學(xué)微/納米加工技術(shù)是基于微/納米電極針尖或針尖陣列的掃描探針顯微鏡(SPM)技術(shù)，包括電化學(xué)掃描隧道顯微鏡(EC-STM)和電化學(xué)原子力顯微鏡(EC-AFM)、超短電壓脈沖技術(shù)(US-VP)、掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)、掃描微電解池(SMEC)等，加工的精度由針尖電極的尺寸決定。無(wú)掩膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于所加工的三維結(jié)構(gòu)的尺度和精度可以達(dá)到微/納米級(jí)別，缺點(diǎn)是材料去除率低以及加工效率低。

1．1電化學(xué)掃描探針顯微鏡(EC-SPM)電化學(xué)掃描隧道顯微鏡由Kolb課題組于1997年提出。與“蘸水筆”技術(shù)很類似，首先在STM探針上沾上帶有Cu2+的溶液，再移到金基片上通過電沉積形成銅納米團(tuán)簇。此方法的加工精度非常高，團(tuán)簇的直徑一般在亞納米級(jí)別，高度可以控制在幾個(gè)納米［7］。然而，由于很多金屬的還原電位低于氫析出電位，很難在水溶液中通過電沉積的方法得到納米團(tuán)簇或微/納米結(jié)構(gòu)。最近，廈門大學(xué)毛秉偉教授課題組在室溫離子液體環(huán)境中電沉積得到了活潑金屬鋅和鐵的納米團(tuán)簇圖案［8-10］。原子力顯微鏡與電化學(xué)聯(lián)用可以達(dá)到類似的結(jié)果。雖然單點(diǎn)加工作業(yè)效率低，但是由于金屬的電沉積速度很快，如果采用陣列SPM探針，可以大幅度提高加工效率。EC-SPM最大的不足在于SPM的掃描行程非常有限，因此加工的尺度范圍很小。目前本課題組正在研發(fā)大行程(100mm×100mm)的EC-SPM技術(shù)。

1．2超短電壓脈沖技術(shù)Schuster發(fā)展了超短電壓脈沖技術(shù)(USVP)，將微/納米電極、電極陣列或者帶有三維微結(jié)構(gòu)的模板(工具)逼近待加工的導(dǎo)電基底(工件)，然后在針尖與基底之間施以納秒級(jí)電壓脈沖。由于電極/溶液界面的時(shí)間常數(shù)為雙電層電容和工具與工件之間溶液的電阻的乘積(τ=RCd)，而后兩者與工具和工件之間的距離有關(guān)，所以在工件與工具之間施加納秒級(jí)的電勢(shì)脈沖時(shí)，只有距離工具最近的工件部位發(fā)生陽(yáng)極溶解，從而得到尺度可控的微型結(jié)構(gòu)［11］。本質(zhì)上講，這種技術(shù)具有距離敏感性，加工的精度較高。我國(guó)已有研究人員正在開展這種技術(shù)的研究［12］。

1．3掃描電化學(xué)顯微鏡掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)是一種以超微電極或納米電極為探針的掃描探針技術(shù)，由一個(gè)三維精密定位系統(tǒng)來(lái)控制探針電極與被加工基底之間的距離，通過在針尖與基底之間局部區(qū)域激發(fā)電化學(xué)反應(yīng)，可以獲得各種微結(jié)構(gòu)圖案。該技術(shù)通過電流反饋原理定位微/納米電極針尖，與STM和AFM相比，雖然空間分辨率有所降低，但是化學(xué)反應(yīng)性能得到增強(qiáng)，大大拓展了微/納米加工的對(duì)象，成為一種重要的微/納米加工技術(shù)。SECM在微/納米加工中的應(yīng)用詳見文獻(xiàn)［13］。

1．4掃描微電解池掃描微電解池(SMEC)是利用毛細(xì)管尖端的微液滴與導(dǎo)電工件形成接觸，對(duì)電極插入到毛細(xì)管中與導(dǎo)電的加工基底構(gòu)成微電解池，并以該微電解池作為掃描探針。由于電化學(xué)反應(yīng)被限制在微液滴中，因此微液滴的尺寸決定了加工的精度［14］。近期的研究結(jié)果表明，通過該方法可以制作形狀可控的銅納米線，在微電子元器件的焊接技術(shù)中表現(xiàn)出顯著的優(yōu)勢(shì)［15］。我們課題組采用該方法合成了各種微/納米晶體或聚合物功能材料，用于構(gòu)筑電化學(xué)功能微器件［16-17］。

2掩膜電化學(xué)微/納米加工技術(shù)掩膜微/納米加工技術(shù)包括LIGA技術(shù)、EFAB技術(shù)、電化學(xué)濕印章技術(shù)(EC-WETS)和電化學(xué)納米印刷技術(shù)。這些加工技術(shù)的主要原理都是將電化學(xué)反應(yīng)控制在具有預(yù)設(shè)微/納米結(jié)構(gòu)的掩模內(nèi)。工件通常是導(dǎo)電的，同時(shí)也作為電極。LIGA和EFAB技術(shù)需要通過光刻在工件上形成微結(jié)構(gòu)，然后通過電沉積方法在其間得到金屬微/納米結(jié)構(gòu)。電化學(xué)濕印章技術(shù)和電化學(xué)納米壓印技術(shù)使用的是凝膠或固體電解質(zhì)模板，模板與工件接觸，利用電沉積或刻蝕形的方法形成所需的微/納米結(jié)構(gòu)。

2．1LIGA技術(shù)LIGA(德語(yǔ)Lithographie，Galvanoformung，Abformung的縮寫)是一種加工高深寬比微/納米結(jié)構(gòu)的方法［18-20］。先在導(dǎo)電基底上涂覆一層光刻膠，通過光刻曝光后形成高深寬比的微/納米結(jié)構(gòu);然后在含有微/納米結(jié)構(gòu)的光刻膠模板上電沉積金屬，去除光刻膠后得到金屬微/納米結(jié)構(gòu)。獲得的金屬微/納米結(jié)構(gòu)還可以進(jìn)一步作為加工塑料和陶瓷材料工件的模板。LIGA加工的深寬比可以達(dá)到10～50，粗糙度小于50nm。該技術(shù)使用的X射線曝光光源價(jià)格昂貴，而紫外曝光工藝又受相對(duì)較低的加工深寬比的制約。另外，如何在有較高深寬比的光刻膠微/納米結(jié)構(gòu)中實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的電鑄也是需要解決的問題。

2．2EFAB技術(shù)EFAB(ElectrochemicalFabrication)是由美國(guó)南加州大學(xué)AdamCohan教授提出的一種微/納米加工方法［21-23］。EFAB技術(shù)首先利用CAD將目標(biāo)三維微/納米結(jié)構(gòu)分解成容易通過光刻加工的多層二維微/納米結(jié)構(gòu);然后將設(shè)計(jì)好的微/納米結(jié)構(gòu)層和犧牲層一層一層地沉積于二維光刻膠模板中;去掉光刻膠模板和犧牲層金屬就可以得到所需的微/納米結(jié)構(gòu)。每一個(gè)電鑄層都要求高度的平坦化，以確保下一步工藝的質(zhì)量?；瘜W(xué)拋光(CMP)是常用的拋光方法，但是其價(jià)格昂貴，大大增加了工藝成本。另外，逐層加工對(duì)多層結(jié)構(gòu)之間的精確對(duì)準(zhǔn)有著很高的要求，任何兩層之間的對(duì)準(zhǔn)錯(cuò)誤都將會(huì)導(dǎo)致整個(gè)微/納米加工流程失敗。2．3電化學(xué)濕印章技術(shù)Grzybowski提出了一種利用含有刻蝕劑和微結(jié)構(gòu)的凝膠模板來(lái)實(shí)現(xiàn)導(dǎo)體或半導(dǎo)體材料的化學(xué)刻蝕技術(shù)［24］。我們課題組采用瓊脂糖凝膠模板作為電解質(zhì)體系，提出了EC-WETS技術(shù)，通過電沉積、陽(yáng)極溶解或化學(xué)刻蝕等途徑實(shí)現(xiàn)微/納米結(jié)構(gòu)的加工［25］。目前的主要問題是如何控制反應(yīng)物的側(cè)向擴(kuò)散，提高反應(yīng)物在膠體中的擴(kuò)散速率以及加工的精度。

2．4固體電解質(zhì)電化學(xué)納米印刷技術(shù)AgS2是一種具有銀離子傳輸能力的固態(tài)超離子導(dǎo)體電解質(zhì)，Hsu等制備了AgS2微/納米結(jié)構(gòu)模板。當(dāng)銀工件表面接觸到超離子導(dǎo)體模板時(shí)，在工件上施加一定的電壓，銀工件表面與模板的連接處將會(huì)發(fā)生銀的陽(yáng)極溶解，銀離子在AgS2電解質(zhì)中遷移，沉積到AgS2模板另一側(cè)的對(duì)電極上［26-27］。這種方法的主要缺陷是可以用作模板的固體電解質(zhì)有限，機(jī)械強(qiáng)度差，而且，工件表面溶出的陽(yáng)離子在固體電解質(zhì)中的擴(kuò)散速度慢，加工效率低。

3約束刻蝕劑層技術(shù)微/納米加工技術(shù)必須滿足以下3點(diǎn)要求:微/納米級(jí)加工尺寸，能加工復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)以及實(shí)現(xiàn)批量化生產(chǎn)。然而非掩膜技術(shù)不適合批量生產(chǎn)，掩模技術(shù)又難以生產(chǎn)連續(xù)曲面等復(fù)雜的三維微結(jié)構(gòu)。我們課題組致力于電化學(xué)微/納米加工領(lǐng)域已有20多年，由田昭武院士提出的具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的約束刻蝕劑層技術(shù)(CELT)可以滿足對(duì)微/納米加工技術(shù)的上述3個(gè)基本要求，本節(jié)將予以詳細(xì)介紹。

3．1基本原理約束刻蝕劑層技術(shù)是通過一個(gè)隨后的均相化學(xué)反應(yīng)將電化學(xué)、光化學(xué)或光電化學(xué)產(chǎn)生的刻蝕劑約束至微/納米級(jí)的厚度，從而實(shí)現(xiàn)微/納米精度的加工。約束刻蝕劑層技術(shù)主要分為以下3個(gè)步驟:①刻蝕劑的生成反應(yīng)為:RO+neorR+hvO(+ne)(1)其中R為刻蝕劑前驅(qū)體，O為刻蝕劑。CELT使用的工具既是光/電化學(xué)體系的工作電極又是微/納米加工的模板，即刻蝕劑通過電化學(xué)、光化學(xué)、光電化學(xué)的方法在模板表面產(chǎn)生。由于刻蝕劑在溶液中的擴(kuò)散，刻蝕劑的形狀和厚度很難控制，這取決于刻蝕劑的擴(kuò)散性質(zhì)、模板電極的大小和形狀。為了確保加工精度，就必須控制刻蝕劑的擴(kuò)散僅僅發(fā)生在模板電極表面微/納米級(jí)的尺度范圍以內(nèi)。②約束反應(yīng)為:O+SR+YorOY(2)其中S為工作溶液中的約束劑，Y是約束劑S與刻蝕劑O反應(yīng)的產(chǎn)物或者光/電化學(xué)反應(yīng)生成的自由基衰變產(chǎn)物。由于約束反應(yīng)的發(fā)生，使刻蝕劑的擴(kuò)散被限制在模板電極表面微/納米級(jí)的尺度范圍以內(nèi)，約束刻蝕劑層的厚度取決于約束反應(yīng)的速率或自由基O的壽命。約束刻蝕劑層的理論厚度為［28］:μ=(D/Ks)1/2(3)其中μ為約束刻蝕劑層的厚度，D為刻蝕劑在工作溶液中的擴(kuò)散系數(shù)，Ks為約束反應(yīng)(式(2))的準(zhǔn)一級(jí)反應(yīng)速率常數(shù)。當(dāng)Ks為109s－1時(shí)，約束刻蝕劑層的厚度將達(dá)到1nm。由于刻蝕劑層被約束在微/納米尺度范圍內(nèi)，刻蝕劑層保持與加工模板一致的形狀。因此，約束刻蝕劑層技術(shù)的加工精度取決于約束刻蝕劑層的厚度。③刻蝕反應(yīng)為:O+MR+P(4)式中M為被加工材料，P為刻蝕產(chǎn)物。當(dāng)模板電極逐漸逼近工件使約束刻蝕劑層與工件表面接觸時(shí)，工件表面將與刻蝕劑發(fā)生化學(xué)刻蝕反應(yīng)，直到在工件表面生成與模板電極三維微/納米結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的微/納米結(jié)構(gòu)。

3．2微/納米加工儀器用于微/納米加工的CELT儀器主要由電化學(xué)工作站、三維微位移控制器、計(jì)算機(jī)反饋系統(tǒng)三部分構(gòu)成［29-33］(圖1)。電化學(xué)工作站用于調(diào)控CELT化學(xué)反應(yīng)體系;三維微位移控制器用于模板工具的定位和進(jìn)給。控溫系統(tǒng)和工作液循環(huán)系統(tǒng)等附屬系統(tǒng)在這里不做展示。計(jì)算機(jī)用于CELT整體系統(tǒng)的信息發(fā)送和反饋，以確保整個(gè)微/納米加工過程協(xié)同完成。

3．3化學(xué)反應(yīng)體系的篩選對(duì)于CELT而言，首先是要選擇合適的化學(xué)反應(yīng)體系。在實(shí)驗(yàn)中，我們使用一個(gè)柱狀微電極作為工具電極來(lái)產(chǎn)生針對(duì)特定加工材料的刻蝕劑。比如在加工半導(dǎo)體砷化鎵時(shí)，溴是常用的刻蝕劑，而胱氨酸作為約束劑用以調(diào)控刻蝕劑層的厚度［34-39］。整個(gè)刻蝕體系的化學(xué)反應(yīng)表示如下:16Br－8Br2+16e(5)5Br2+RSSR+6H2O2RSO3H+10Br－+10H+(6)3Br2+GaAs+3H2O6Br－+AsO3－3+Ga3++6H+(7)用于加工砷化鎵的CELT化學(xué)體系的循環(huán)伏安圖見圖2(a)［34］?？涛g劑的生成反應(yīng)(式(5))是一個(gè)可逆的氧化還原反應(yīng)。由于工作液中胱氨酸(RSSR)與溴的約束反應(yīng)(式(6))，胱氨酸被氧化為磺酸(RSO3H)，體系的法拉第電流顯著增加，這表明約束刻蝕劑層的厚度減小。如圖2(c)所示，納米加工的精度得到良好改善［38］。值得注意的是，約束刻蝕劑層的厚度可以通過改變約束劑的濃度來(lái)調(diào)節(jié)。這對(duì)于超光滑表面的加工十分重要，可以根據(jù)實(shí)際技術(shù)要求調(diào)整工藝。SECM可以用來(lái)探測(cè)工具表面刻蝕劑的濃度分布，并且可以用來(lái)獲取CELT化學(xué)反應(yīng)體系的動(dòng)力學(xué)參數(shù)，這對(duì)于優(yōu)化CELT微/納米加工的技術(shù)參數(shù)十分重要［40-41］。

3．4復(fù)雜三維微結(jié)構(gòu)的CELT加工CELT已被證明可以成功地用于金屬、合金、半導(dǎo)體、絕緣體表面復(fù)雜三維微結(jié)構(gòu)的加工［42-49］。在三維微結(jié)構(gòu)的加工實(shí)驗(yàn)中，使用的是具有互補(bǔ)結(jié)構(gòu)的模板電極。模板材料可以是鉑銥合金、硅、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。在具有三維微結(jié)構(gòu)的硅或PMMA模板上首先沉積一層鈦，然后再濺射一層鉑，以確保模板在加工過程中的導(dǎo)電性和穩(wěn)定性。在金屬或合金基底上加工三維微結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵是在工具電極表面產(chǎn)生氫離子作為刻蝕劑，以氫氧化鈉作為約束劑。目前，各種三維微結(jié)構(gòu)已經(jīng)被成功復(fù)制在銅［50-51］、鎳［51-52］、鋁［53］、鈦［54］、鎳鈦合金［55］、Ti6Al4V［56］、鎂合金［57］基底上。對(duì)于半導(dǎo)體硅［32，58-62］或砷化鎵［34-39］，一般以溴作為刻蝕劑，以胱氨酸為約束劑。圖3所示的是采用CELT在n型砷化鎵基底上加工出的三維衍射微透鏡陣列，這是CELT加工出的首例光學(xué)微器件［39］。整個(gè)微透鏡陣列是一個(gè)八相位衍射光學(xué)器件，每個(gè)小微透鏡由8個(gè)同心圓以及7個(gè)臺(tái)階位構(gòu)成。7個(gè)臺(tái)階位的總高度是1．3μm，每個(gè)臺(tái)階的平均高度為187nm。添加劑對(duì)提高刻蝕產(chǎn)物的溶解性至關(guān)重要，在硅微加工中，通常加入氟化鈉以避免硅沉淀。最近，由光電化學(xué)或光化學(xué)生成自由基刻蝕劑也取得了初步進(jìn)展，例如二乙胺自由基刻蝕銅［63］。

3．5超光滑表面的CELT加工如果工具模板不是復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)，而是一個(gè)超光滑平面，CELT能否發(fā)展成為一種整平技術(shù)呢?由于集成電路和超精密光學(xué)器件等領(lǐng)域的巨大市場(chǎng)需求，將CELT發(fā)展成為一種超光滑表面加工技術(shù)具有十分重要的意義。最近，我們采用CELT的基本原理開展了超光滑表面加工的研究工作，該方法有可能代替現(xiàn)有的化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)，用于超大規(guī)模集成電路中銅互連結(jié)構(gòu)的整平。初步的研究結(jié)果表明CELT對(duì)銅的整平有著良好的效果(圖4)。CELT拋光的關(guān)鍵在于確保約束刻蝕劑層在大面積范圍內(nèi)保持均一的濃度分布。盡管大面積超光滑工具電極的流體力學(xué)設(shè)計(jì)非常必要，但是最簡(jiǎn)單的方法是使用一個(gè)線型工具電極對(duì)在加工平臺(tái)上做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的工件進(jìn)行作業(yè)。本課題組正在將傳統(tǒng)的機(jī)械加工作業(yè)方式與CELT進(jìn)行對(duì)接，這無(wú)疑將在超光滑表面及其微/納米二級(jí)結(jié)構(gòu)的加工領(lǐng)域發(fā)揮更加重要的作用［33］。

第6篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

與傳統(tǒng)光學(xué)不同的是，由光學(xué)與微電子、微機(jī)械、納米技術(shù)互相融合、滲透、交叉而形成的前沿學(xué)科――微納光學(xué)，變革了傳統(tǒng)光學(xué)與技術(shù)的發(fā)展路線。這門新興的交叉學(xué)科在信息、能源、生命、環(huán)保、宇航、國(guó)防等領(lǐng)域均已產(chǎn)生新的重要應(yīng)用。在我國(guó)，微納光子學(xué)的發(fā)展也日益受到重視，未來(lái)發(fā)展前程似錦。

1996年，付永啟博士畢業(yè)。近20年過去，付永啟一直沒有離開過微納光學(xué)研究領(lǐng)域，在他看來(lái)，盡管微光學(xué)似乎看不見，摸不著，但從人們的生活乃至國(guó)家的高尖端科學(xué)都離不開它。這正是它的魅力所在。

“微納光子雖小，照亮我們未來(lái)的路”

1994年，付永啟在中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所攻讀博士學(xué)位，“當(dāng)時(shí)是跟導(dǎo)師一起做國(guó)家航天項(xiàng)目中的一個(gè)子項(xiàng)目――‘動(dòng)態(tài)目標(biāo)發(fā)生器’的研究，我主要負(fù)責(zé)曲面光刻的研究?！蹦鞘撬佑|到微光學(xué)并逐漸對(duì)微光學(xué)元器件的設(shè)計(jì)制作產(chǎn)生興趣的開始。

在博士后研究階段，付永啟又接著在衍射光學(xué)元件的設(shè)計(jì)制作方面開展了深入研究。隨后為了開闊視野、提升研究能力，付永啟于1998年赴新加坡南洋理工大學(xué)精密工程與納米技術(shù)中心作研究員，借助當(dāng)?shù)貎?yōu)越的軟硬件條件繼續(xù)深入開展微光學(xué)以及后期納米光學(xué)領(lǐng)域的研究工作。

從此，一個(gè)嶄新的世界――納米光學(xué)這個(gè)交叉領(lǐng)域逐步在他面前展開。

正如他所說(shuō)的“學(xué)得越多就會(huì)發(fā)現(xiàn)自己不懂的東西越多”，在學(xué)習(xí)和研究過程中，他覺得不應(yīng)該囿于領(lǐng)域，萌生了走出國(guó)門看看的念頭。1998年，他選擇赴新加坡南洋理工大學(xué)精密工程與納米技術(shù)中心做研究員。后來(lái)，又通過那里獲得了在麻省理工學(xué)院作訪問學(xué)者的機(jī)會(huì)。

通過與科研院所及工業(yè)界的合作，付永啟開展了多個(gè)橫向和縱向項(xiàng)目研究，接觸到了微電子、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、微納加工、納米計(jì)量及生化分析等多學(xué)科領(lǐng)域的知識(shí)，先后完成了多項(xiàng)重大研究課題，并取得了許多創(chuàng)新性成果。

借助于國(guó)外較好的軟硬件條件，付永啟快速提高了獨(dú)立開展科研工作的能力。東西方文化在他身上相遇，已經(jīng)不再是形式的混體，而是精神層面的和平融合，使得付永啟的治學(xué)態(tài)度里，囊括了中國(guó)智慧的通達(dá)以及西方思想嚴(yán)密的邏輯性，在這種態(tài)度的指引下，他對(duì)科研工作有了更深層次的認(rèn)識(shí)，同時(shí)對(duì)科學(xué)研究也更加熱愛。

2001年，付永啟將目光專注到了一種新的微納光學(xué)元件一步加工制作方法―聚焦離子束制作技術(shù)上，經(jīng)過兩年的反復(fù)研究、實(shí)驗(yàn)，終于獲得成功并使該技術(shù)逐漸走向成熟。

付永啟利用納米加工技術(shù)實(shí)現(xiàn)了微光學(xué)元件與光電子元/器件的集成一體化，即利用聚焦離子束技術(shù)直接一步將微光學(xué)元器件甚至納米光子元器件與光電子器件（如半導(dǎo)體激光器、光導(dǎo)纖維等）集成于一體，從而達(dá)到直接控制光束的目的。這一技術(shù)擺脫了傳統(tǒng)的采用離散光學(xué)元件對(duì)激光束進(jìn)行準(zhǔn)直或聚焦的方法，不但減少了光學(xué)系統(tǒng)的元件數(shù)，而且節(jié)省了空間，更容易實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的輕量化和小型化，對(duì)微系統(tǒng)的開發(fā)具有重要意義。

同時(shí)，他還發(fā)現(xiàn)了兩種材料，它們?cè)诰劢闺x子束轟擊下具有材料自組織成型特性，該特性可直接用于微光學(xué)元件的結(jié)構(gòu)成型。以該技術(shù)為基礎(chǔ)，能夠制作出幾種特定的微光學(xué)元件，包括微正弦光柵、微閃耀光柵等。

此外，付永啟還利用聚焦離子束直接寫入法和輔助沉積法成功實(shí)現(xiàn)了微光學(xué)元件與光電子元/器件的集成一體化；也就是說(shuō)，該集成一體化既可以采用基于聚焦離子束去除材料的方法實(shí)現(xiàn)，也可以利用材料生長(zhǎng)的方法來(lái)得到。從而為光學(xué)系統(tǒng)的小型化、微型化、平面化提供了制作技術(shù)保障。該集成一體化元/器件已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生命科學(xué)、生化、通信、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等領(lǐng)域，至今仍在應(yīng)用，還沒有其他方法能夠替代。

值得一提的是，聚焦離子束技術(shù)在微電子行業(yè)的廣泛應(yīng)用，大大提高了微電子工業(yè)上材料、工藝、器件分析及修補(bǔ)的精度和速度，目前已經(jīng)成為微電子技術(shù)領(lǐng)域必不可少的關(guān)鍵技術(shù)之一。同時(shí)，由于它集材料刻蝕、沉積、注入、改性于一身，有望成為高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)器件制造全過程的主要加工手段。

“研究要服務(wù)社會(huì)，我們要瞄準(zhǔn)國(guó)家重大需求”

“在國(guó)外更能體會(huì)到‘國(guó)家’兩字的真實(shí)內(nèi)涵，真心希望自己的祖國(guó)能夠早日強(qiáng)大。當(dāng)2008年北京奧運(yùn)會(huì)開幕式上播放出《我的祖國(guó)》這首歌時(shí)，激動(dòng)的心情難于言表，內(nèi)心百感交集?！?付永啟感慨道。2007年，付永啟放棄國(guó)外優(yōu)越的待遇和生活，帶著累累碩果和先進(jìn)理念回國(guó)，先后受聘于中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微細(xì)加工光學(xué)技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室和電子科技大學(xué)物理電子學(xué)院。

“剛回國(guó)時(shí)想有一個(gè)屬于自己獨(dú)立的科研小組和相對(duì)寬松的科研環(huán)境，在這種環(huán)境中能靜下心來(lái)實(shí)際做點(diǎn)科研，希望能從科研工作和培養(yǎng)學(xué)生方面體現(xiàn)出自身的價(jià)值所在?？茖W(xué)研究最終是要服務(wù)社會(huì)的，而具體的應(yīng)用領(lǐng)域要瞄準(zhǔn)國(guó)家的重大需求?！备队绬⑹沁@樣說(shuō)的，也是這樣做的。

在學(xué)校和所在團(tuán)隊(duì)的支持下，付永啟在納光子結(jié)構(gòu)、元器件及其應(yīng)用方面取得多項(xiàng)國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目的資助。提出了兩種基于納金屬結(jié)構(gòu)的超分辨透鏡，該透鏡可方便地通過聚焦離子束技術(shù)一步制作出來(lái)，其光學(xué)表征可利用近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡實(shí)現(xiàn)；基于表面等離子體極化用于生化免疫分析：設(shè)計(jì)和制作了菱形納金屬顆粒，并成功地用于老年癡呆癥（ADDL）以及SEB病毒素的測(cè)試；有源及無(wú)源光電子器件與衍射光學(xué)元件的集成；基于聚焦離子束技術(shù)的微光學(xué)元器件的一步制作技術(shù)的開發(fā)和拓展；基于納光子器件微探頭的納米計(jì)量系統(tǒng)的概念設(shè)計(jì)：提出利用納光子超透鏡微探頭并結(jié)合激光多普勒外差干涉技術(shù)實(shí)現(xiàn)納米缺陷的動(dòng)態(tài)在線檢測(cè)，該內(nèi)容已獲得美國(guó)專利授權(quán)。

研究工作的創(chuàng)新點(diǎn)主要體現(xiàn)在微光學(xué)元件的加工制作技術(shù)上，國(guó)際上首創(chuàng)采用聚焦離子束技術(shù)直接一步加工和制作微小光學(xué)元件，具體包括微型衍射、折射、折衍混合、柱面、及橢球面透鏡等。這一創(chuàng)新技術(shù)解決了一些常規(guī)微光學(xué)元件制作方法難以實(shí)現(xiàn)的微光學(xué)元器件集成一體化問題，為光學(xué)系統(tǒng)緊湊化和小型化，以及微光學(xué)系統(tǒng)的研究開發(fā)提供了一條新的有效途徑。

如果把才華比作劍，那么勤奮就是磨刀石。付永啟和課題組成員付出了超乎尋常的努力，經(jīng)過多年的努力拼搏，在納米光學(xué)、微細(xì)加工、納米加工、衍射光學(xué)及微光學(xué)領(lǐng)域取得多項(xiàng)研究成果，在國(guó)際相關(guān)著名學(xué)術(shù)期刊和國(guó)內(nèi)核心學(xué)術(shù)期刊上150余篇，其中被SCI檢索收錄論文120余篇，以第一作者撰寫和58篇，以通訊作者100余篇，JCR分區(qū)一區(qū)刊物論文23篇，影響因子IF>3.0的論文46篇（占SCI論文總數(shù)的34%），論文累計(jì)被引次數(shù)1100余次，單篇他引最高次數(shù)83次，JCR統(tǒng)計(jì)h指數(shù)18。其中，代表論文之一：“Optics Express 18（4）， 3438-3443 （2010）”被國(guó)際文獻(xiàn)追綜機(jī)構(gòu)BioMedLib于2011年2月28日評(píng)為納光子結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的“Top10”論文之一；此外，在該領(lǐng)域國(guó)際著名學(xué)術(shù)刊物Plasmonics（該刊物屬于JCR分區(qū)一區(qū)刊物）上陸續(xù)發(fā)表系列研究論文22篇。

此外，付永啟在微納加工及納米光學(xué)領(lǐng)域分別撰寫五部英文專著中的各一章：即Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology（2nd Edition，出版號(hào)：ISBN： 1-58883-159-0）、Lithography： Principles， Processes and Materials（出版號(hào)：I S B N： 978-1-61761-837-6） 、Plasmonics： Principles and Applications（出版號(hào)：ISBN： 979-953-307-855-6）Ion beams in Nanoscience and Technology（出版號(hào)：ISBN 978-3-642-00622-7）、和《Nanofabrication》 （出版號(hào)ISBN： 978-953-307-912-7）；并獨(dú)立撰寫中、英文專著各一部，分別為《納光子學(xué)及其應(yīng)用》（出版號(hào)ISBN： 978-7-80248-537-2）（該書是目前國(guó)內(nèi)唯一一部具有自己獨(dú)立編著版權(quán)的全面系統(tǒng)地介紹納米光學(xué)發(fā)展前沿的中文專著，出版后得到同行的一致好評(píng)。）、英文專著書名為《Subwavelength Optics：Theory and Technology》；并以此為基礎(chǔ)，在國(guó)內(nèi)首次開設(shè)了《亞波長(zhǎng)光學(xué)》課程，于2009年秋在電子科技大學(xué)作為研究生專業(yè)課程講授。自2010年電子科技大學(xué)研究生院和中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所研究生部均采用《納光子學(xué)及其應(yīng)用》一書作為研究生專業(yè)課程：《亞波長(zhǎng)光學(xué)》及《納米光學(xué)》的指定教材。該書作為2011年電子科技大學(xué)“十二五”規(guī)劃研究生教材建設(shè)立項(xiàng)支持（項(xiàng)目編號(hào)：11211CX20401），于2012年12月末成功出版了修訂版。

有關(guān)利用聚焦離子束一步制作微光學(xué)元件的內(nèi)容被法國(guó)DELAWARE大學(xué)電子和計(jì)算機(jī)工程系Robert G.. Hunsperger教授寫入其編著的教科書《Integrated Optics： Theory and Technology》（第五版）的一個(gè)章節(jié)中。部分研究結(jié)果還被美國(guó)網(wǎng)絡(luò)多媒體組織NANOPOLISTM于2007年出版的《納米技術(shù)百科全書》多媒體教程引用并收錄， 并被邀請(qǐng)作“聚焦離子束”章節(jié)的內(nèi)容評(píng)審人。

學(xué)術(shù)刊物論文中有關(guān)基于聚焦離子束直接沉積實(shí)現(xiàn)微型柱面透鏡與邊緣發(fā)射型半導(dǎo)體激光器集成化實(shí)現(xiàn)激光束的一維和二維整形的技術(shù)、以及類金剛石薄膜上一步寫入微透鏡技術(shù)，被國(guó)際上面向工業(yè)界的雜志Laser Focus World分別摘錄并以新聞簡(jiǎn)報(bào)的形式在“光電子世界新聞”欄目中公布；并已分別獲得美國(guó)發(fā)明專利和中國(guó)發(fā)明專利的授權(quán)。

鑒于他出色的科研成就，近年來(lái)相繼在美國(guó)、加拿大、日本、韓國(guó)、新加坡、中國(guó)等國(guó)舉辦的衍射光學(xué)與微光學(xué)、微加工及納米加工、離子束及應(yīng)用、精密工程、納米技術(shù)NanoTech 2004、亞洲光電子Photonics Asia 2004、ICAMT2005、NanoMan2008、Nanophotonics2009等專題會(huì)議及年會(huì)上作大會(huì)報(bào)告及特邀報(bào)告。

2010年，付永啟被國(guó)家科技部聘請(qǐng)為國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究計(jì)劃（973）項(xiàng)目“光學(xué)自由曲面制造的基礎(chǔ)研究”的項(xiàng)目專家組成員；并受邀分別擔(dān)任國(guó)際學(xué)術(shù)刊物Physics Express、Quantum Matter、Journal of Electromagnetic Field Analyses and Applications的高級(jí)主編、副主編、及編委。

第7篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

河南平原光電有限公司制造四部光學(xué)球面拋光一班以四個(gè) “一流”為主要內(nèi)容，以“安全”“和諧”為目標(biāo)，在開展創(chuàng)建“工人先鋒號(hào)”建功立業(yè)競(jìng)賽活動(dòng)中，取得了突出成效，先后被兵器工業(yè)集團(tuán)公司授予“五好一準(zhǔn)確”優(yōu)秀班組，河南省總工會(huì)“工人先鋒號(hào)”,并被國(guó)防工業(yè)企業(yè)聯(lián)合會(huì)作為xx年度“管理創(chuàng)新”成果的一個(gè)典型案例，xx年5月被中華全國(guó)總工會(huì)授予全國(guó)“工人先鋒號(hào)”.

光學(xué)生產(chǎn)是平光公司的一項(xiàng)主業(yè)生產(chǎn)，“球面拋光”則是這條生產(chǎn)線上工藝要求最高、最具牽制作用的一道關(guān)鍵工序。球面拋光一班共有16名員工，平均年齡40歲，其中男工2名，女工14名。包括技師3名，高級(jí)工3名，中級(jí)工7名，黨團(tuán)員各1名，文化程度：大專4人，中專2人、高中8人、初中1人。承擔(dān)著公司近2/3的光學(xué)零件球面拋光工序的加工任務(wù)。

為了扎實(shí)開展創(chuàng)建“工人先鋒號(hào)”建功立業(yè)競(jìng)賽活動(dòng)，她們確定了以“建樹一流素質(zhì)、創(chuàng)造一流工作、提供一流服務(wù)、取得一流業(yè)績(jī)”四個(gè)“一流”為主要內(nèi)容，以“保持安全生產(chǎn)”、“打造和諧團(tuán)隊(duì)”為目標(biāo)，做到了有方案、有措施、有考核、有獎(jiǎng)懲，使創(chuàng)建活動(dòng)落到實(shí)處。

建樹一流素質(zhì) 她們緊緊抓住“作風(fēng)”與“技能”兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，從班組文化開始，凝心聚力，提升素質(zhì)。在每周的“班組例會(huì)”中，增加了文化理念案例評(píng)說(shuō)、法規(guī)制度遵守點(diǎn)評(píng)，職業(yè)道德事例講評(píng)，“五好一準(zhǔn)確”(完成任務(wù)好、現(xiàn)場(chǎng)管理好、質(zhì)量安全好、成本控制好、精神文明好、管理信息真實(shí)準(zhǔn)確)自查打分等，使思想作風(fēng)和業(yè)務(wù)技能工作同步提高，實(shí)現(xiàn)了班組管理科學(xué)化、民主化、規(guī)范化、特色化。

球面拋光一班承擔(dān)著公司全部球面光學(xué)零件軍品、新品科研生產(chǎn)，及年近350萬(wàn)對(duì)外勞務(wù)協(xié)作任務(wù)。隨著對(duì)外協(xié)作任務(wù)的不斷擴(kuò)大和光學(xué)生產(chǎn)科技含量的不斷增加，尤其是一些環(huán)境要求特殊甚至于太空環(huán)境的光學(xué)零件，班組開展了針對(duì)性的業(yè)務(wù)知識(shí)、專業(yè)技能培訓(xùn)，全體成員參加了80人次的技術(shù)培訓(xùn)、崗位練兵，業(yè)務(wù)水平明顯提高，2人入選“二五八人才”和10人“車間骨干人才”.班組還積極開展“導(dǎo)師帶徒”活動(dòng)，班組中的老師傅耐心指導(dǎo)新入廠的大學(xué)生，在空閑時(shí)間和大學(xué)生談心，引導(dǎo)他們認(rèn)真學(xué)習(xí)業(yè)務(wù)知識(shí)，樹立新時(shí)代技術(shù)工人的良好形象，嚴(yán)格要求這些新入廠的學(xué)生把理論知識(shí)和平光生產(chǎn)的實(shí)際相結(jié)合起來(lái)，努力做到理論上更加扎實(shí)技術(shù)上能夠精益求精，務(wù)實(shí)創(chuàng)新，成為企業(yè)發(fā)展和班組建設(shè)的新生力量。

創(chuàng)造一流工作 班組深入開展技術(shù)創(chuàng)新活動(dòng)，牢固樹立成本控制、節(jié)約降耗意識(shí)，特別是在xx年，積極開發(fā)新產(chǎn)品，研究和應(yīng)用新材料、新技術(shù)、新工藝，努力改進(jìn)工藝設(shè)備，改善操作，對(duì)于技術(shù)含量高，加工難度大的零件，班組成員積極與技術(shù)人員配合，積極創(chuàng)新以滿足客戶的技術(shù)要求。

例如：在加工航空航天某研究所一個(gè)焦距長(zhǎng)達(dá)17000mm的批量等厚透鏡時(shí)，傳統(tǒng)放大口徑拋光磨邊的工藝，已不能滿足產(chǎn)品高精度要求，只有嚴(yán)格控制邊厚差，來(lái)保證透鏡的光軸偏心要求。按該件焦距算得邊厚差僅有0.0034mm,給加工及檢測(cè)都提出了傳統(tǒng)工藝不能克服的困難，球面拋光一班技師骨干與技術(shù)人員一起在德國(guó)進(jìn)口數(shù)控銑磨拋光設(shè)備上開展工藝創(chuàng)新活動(dòng)，利用該設(shè)備同時(shí)開發(fā)磨邊功能，將該件邊厚差控制在0.002mm以內(nèi)，優(yōu)化了傳統(tǒng)工藝，同時(shí)在拋光工序一次完成了光軸定心磨邊工序，大大縮短了工藝流程，極大的提高了批量傳統(tǒng)球面零件的加工效率和精度，快速響應(yīng)客戶市場(chǎng)及高品質(zhì)的光學(xué)零件，得到了客戶的高度評(píng)價(jià)。利用此創(chuàng)新工藝，該班組在數(shù)控設(shè)備加工某軍品產(chǎn)品中的15種零件，在未增加人員的情況下，短短一個(gè)多月時(shí)間，僅一人完成了全部15種零件拋光任務(wù)，這是傳統(tǒng)拋光工藝所無(wú)法辦到的，該創(chuàng)新工藝的效率是傳統(tǒng)拋光工藝效率的5倍;僅此一項(xiàng)創(chuàng)新活動(dòng)節(jié)約材輔料近9萬(wàn)元。

該班組在開展創(chuàng)新工藝的同時(shí)，積極開展多波段紅外光學(xué)材料新加工技術(shù)研究，不斷探索了紅外晶體Ge、ZnS等材料的加工技術(shù)，為公司產(chǎn)品發(fā)展不斷儲(chǔ)備新技術(shù)。

提供一流服務(wù) 班組堅(jiān)持文明、優(yōu)質(zhì)、誠(chéng)信的服務(wù)理念，積極開展服務(wù)創(chuàng)新，堅(jiān)持為產(chǎn)品配套單位(班組)、下道工序提供熱情周到、規(guī)范滿意的服務(wù)，不斷提高服務(wù)競(jìng)爭(zhēng)力，xx年，班組采取了各種措施改進(jìn)生產(chǎn)，力爭(zhēng)為客戶提供高質(zhì)量、高品質(zhì)的產(chǎn)品，使公司的客戶滿意度、公眾認(rèn)知度得到大幅提高。同時(shí)，班組通過制造部積極和其它的光學(xué)廠進(jìn)行交流，就加工零件過程中遇到的各種問題和困難進(jìn)行探討，然后總結(jié)經(jīng)驗(yàn)，積極創(chuàng)新，解決生產(chǎn)過程中的問題。例如某產(chǎn)品的雙凸透鏡，材料為ZF11,質(zhì)地軟，化學(xué)穩(wěn)定性差，若把零件涂完粘結(jié)膠后放置時(shí)間過長(zhǎng)則會(huì)出現(xiàn)黑印子，同時(shí)清洗的時(shí)候也不能在酒精中放置時(shí)間太長(zhǎng)，針對(duì)這種情況，經(jīng)過探討和研究以后采用了在拋光以后立即涂上保護(hù)液或者縮醛膠，然后再冷卻下盤清洗，這樣既保證了產(chǎn)品的質(zhì)量，又且解決了該產(chǎn)品的工藝難題，提高了公司在該產(chǎn)品的生產(chǎn)上的工藝水平。

取得一流業(yè)績(jī) 作為公司軍、民品光學(xué)生產(chǎn)任務(wù)的關(guān)鍵班組，她們緊密結(jié)合崗位工作實(shí)際，積極投身于崗位創(chuàng)一流、建功當(dāng)先鋒，把先進(jìn)理念轉(zhuǎn)化為先鋒行為，不僅年年月月保質(zhì)保量全面完成任務(wù)，而且還協(xié)助其他班組完成了如光學(xué)截止干涉濾光膜和窄帶干涉濾光片的研制、多波段超寬帶增透膜膜系的開發(fā)、加熱膜工藝的改進(jìn)與金屬剃度衰減濾光膜工藝的創(chuàng)新等工作。xx年完成加工零件751種、32941件，總產(chǎn)值347萬(wàn)元。在公司和車間開展的勞動(dòng)競(jìng)賽中，該班組因兩個(gè)文明建設(shè)成績(jī)突出，月月榜上有名，并在年底獲得明星班組特等獎(jiǎng)。

保持安全生產(chǎn) 單位和班組認(rèn)真貫徹“安全第一，預(yù)防為主，”的方針，始終堅(jiān)持群監(jiān)群防的原則，積極開展“安康杯”競(jìng)賽、“安全生產(chǎn)月”等安全生產(chǎn)活動(dòng)，做到無(wú)人身傷亡和重大質(zhì)量、設(shè)備事故。安全生產(chǎn)工作方面，積極組織班組成員學(xué)習(xí)《安全生產(chǎn)》手冊(cè)，認(rèn)真開展“反三違”、“安康杯”競(jìng)賽、“安全生產(chǎn)月”活動(dòng)，做好設(shè)備的維護(hù)和保養(yǎng)工作，針對(duì)球面拋光機(jī)器的特點(diǎn)，積極和機(jī)電修班組相結(jié)合，定期檢查軸承和線路，避免安全事故的發(fā)生。與此同時(shí)組織人員定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)，每日進(jìn)行基本的維護(hù)，堅(jiān)決杜絕存在安全隱患的機(jī)器的使用。在部門領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷下，在班長(zhǎng)盧玉琴的以身作則的表率作用下，全面提高了班組成員的安全意識(shí)，有效的防止和杜絕了各類安全事故的發(fā)生。

第8篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

關(guān)鍵詞:技術(shù)特點(diǎn);技術(shù)種類;發(fā)展趨勢(shì)

一、概述

傳統(tǒng)的機(jī)械加工技術(shù)對(duì)推動(dòng)人類的進(jìn)步和社會(huì)的發(fā)展起到了重大的作用。隨著科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展,新型工程材料不斷涌現(xiàn)和被采用,工件的復(fù)雜程度以及加工精度的要求越來(lái)越高,對(duì)機(jī)械制造工藝技術(shù)提出了更高的要求。

二、特種加工技術(shù)的特點(diǎn)

(一)加工范圍上不受材料強(qiáng)度、硬度等限制。特種加工技術(shù)主要不依靠機(jī)械力和機(jī)械能去除材料,而是主要用其他能量(如電、化學(xué)、光、聲、熱等)去除金屬和非金屬材料,完成工件的加工。故可以加工各種超強(qiáng)硬材料、高脆性及熱敏材料以及特殊的金屬和非金屬材料。

(二)以柔克剛。特種加工不一定需要工具,有的雖使用工具,但與工件不接觸,加工過程中工具和工件間不存在明顯的強(qiáng)大機(jī)械切削力,所以加工時(shí)不受工件的強(qiáng)度和硬度的制約,在加工超硬脆材料和精密微細(xì)零件、薄壁元件、彈性元件時(shí),工具硬度可以低于被加工材料的硬度。

(三)加工方法日新月異,向精密加工方向發(fā)展。當(dāng)前已出現(xiàn)了精密特種加工,許多特種加工方法同時(shí)又是精密加工方法、微細(xì)加工方法,如電子束加工、離子束加工、激光束加工等就是精密特種加工:精密電火花加工的加工精密度可達(dá)微米級(jí)0.5～1u m,表面粗糙度可達(dá)鏡面Ra0.021.1m。

(四)容易獲得良好的表面質(zhì)量。由于在加工過程中不產(chǎn)生宏觀切屑,工件表面不會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)烈的彈、塑性變形,故可以獲得良好的表面粗糙度。殘余應(yīng)力、熱應(yīng)力、冷作硬化、熱影響區(qū)及毛刺等表面缺陷均比機(jī)械切割表面小,尺寸穩(wěn)定性好,不存在加工中的機(jī)械應(yīng)變或大面積的熱應(yīng)變。特種加工的主要應(yīng)用范圍有

1.加工各種難切削材料。如硬質(zhì)合金、鈦、合金、耐熱鋼、不銹鋼、淬硬鋼、金剛石、紅寶石、石英以及鍺、硅等各種高硬度、高強(qiáng)度、高韌性、高熔點(diǎn)的金屬及非金屬材料。

2.加工各種特殊復(fù)雜零件的三維型腔、型孔、群孔和窄縫等。如發(fā)動(dòng)機(jī)機(jī)匣、整體鍋輪、鍛壓模和注射模的立體成型表面,各種沖模、冷拔模上特殊斷面的型孔,炮管內(nèi)膛線,噴油嘴、柵網(wǎng)、噴絲頭上的小孔、窄縫等。

3.加工各種超精、光整或具有特殊要求的零件。如對(duì)表面質(zhì)量和精度要求很高的航天航空陀螺儀、閥,以及細(xì)長(zhǎng)軸、薄壁零件、彈性元件等低剛度零件的加工,有些方法還可用于納米級(jí)加工。

4.以高能量密度束流實(shí)現(xiàn)焊接、切割、制孔、噴涂、表面改性、刻蝕和精細(xì)。

三、特種加工技術(shù)的種類

特種加工技術(shù)所包含的范圍非常廣,隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,特種加工技術(shù)的內(nèi)容也不斷豐富。

(一)電火花加工

電火花加工又稱作電蝕加工或放電加工,是將工具電極和工件置于絕緣的工作液中,工件和工具分別接直流脈沖電源正極和負(fù)極,加上電壓,利用工具電極和工件電極間脈沖放電時(shí)產(chǎn)生的電蝕現(xiàn)象對(duì)材料毛坯進(jìn)行加工。

(二)電化學(xué)加工

電化學(xué)加工是通過電化學(xué)反應(yīng)去除工件材料或在其上鍍覆金屬材料等的特種加工。該方法主要包括電解、電鍍、電鑄、電化學(xué)拋光等工藝方法。

(三)高能束流加工

高能束流加工也稱為三束流加工,是利用能量密度很高的激光束、電子束或離子束等去除工件材料的特種加工方法的總稱。其中電子束加工技術(shù)改變了原有的設(shè)計(jì)思想,可將原有的高精度復(fù)雜難加工型面或無(wú)法加工的大型整體零件分成若干個(gè)易加工的單元,精加工和熱處理以后,用電子束將其焊接成整體零件。

(四)物料切蝕加工

物料切蝕加工包括超聲波加工與水噴射加工、磨料噴射加工、磨料流動(dòng)加工。是指利用流體、磨料,流體與磨料的混合液等動(dòng)能,去沖擊、拋磨、浸蝕工件被加工部位而實(shí)現(xiàn)去除工件材料的方法。

(五)復(fù)合加工

復(fù)合加工是指用多種能源組合進(jìn)行材料去除的工藝方法,大多是在機(jī)械加工的同時(shí)應(yīng)用流體力學(xué)、化學(xué)、光學(xué)、電磁學(xué)和聲波等能源進(jìn)行綜合加工,這些加工方法能夠提高加工效率或獲得很高的尺寸精度、形狀精度和完整的表面。

四、特種加工技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)

(一)采用自動(dòng)化技術(shù)充分利用計(jì)算機(jī)技術(shù)對(duì)特種加工設(shè)備的控制系統(tǒng)、電源系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化,建立綜合參數(shù)自適應(yīng)系統(tǒng)、數(shù)據(jù)庫(kù)等,進(jìn)而建立特種加工的cAD/cAM和FMS系統(tǒng),這是當(dāng)前特種加工技術(shù)的主要發(fā)展趨勢(shì)。

(二)向工程化和產(chǎn)業(yè)化方向發(fā)展不斷改進(jìn)、提高高能束源品質(zhì),對(duì)大功率、高可靠性、多功能、智能化加工設(shè)備的研發(fā)是今后的重點(diǎn)發(fā)展方向。

(三)著力開展精密化研究高新技術(shù)的發(fā)展促使高新技術(shù)產(chǎn)品向超精密化與小型化方向發(fā)展,正向亞微米級(jí)和納米級(jí)邁進(jìn),對(duì)產(chǎn)品零件的精度與表面粗糙度提出更嚴(yán)格的要求。

(四)污染問題是影Ⅱ自和限制某些特種加工應(yīng)用、發(fā)展的嚴(yán)重障礙,加工過程中產(chǎn)生的廢渣、廢氣如果排放不當(dāng),會(huì)造成環(huán)境污染,影響工人健康。必須花大力氣處理并利用廢氣、廢渣、廢液,向“綠色”加工的方向發(fā)展。

五、結(jié)束語(yǔ)

現(xiàn)代特種加工技術(shù)主要是伴著高硬度、高強(qiáng)度、高韌性、高脆性等難切削材料的額出現(xiàn),以及制造精密細(xì)小、形狀復(fù)雜和結(jié)構(gòu)特殊的零件的需要而產(chǎn)生的,具有其他常規(guī)加工技術(shù)無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn),已成為航空航天、汽車、儀器儀表、微型機(jī)械、輕工、模具等行業(yè)的支撐技術(shù)和關(guān)鍵技術(shù)。隨著科學(xué)技術(shù)和現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展,特種加工技術(shù)必將不斷完善和迅速發(fā)展,反過來(lái)又必將推動(dòng)科學(xué)技術(shù)和現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展,并發(fā)揮越來(lái)越重要的作用。

參考文獻(xiàn):

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[4]白基成,郭永豐,劉晉春.特種加工技術(shù)[M].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社,2006.

第9篇：光學(xué)加工技術(shù)范文

摘要：本文通過比較波導(dǎo)濾波器設(shè)計(jì)在太赫茲波段與微波波段的區(qū)別，闡述太赫茲濾波器的設(shè)計(jì)要點(diǎn)。結(jié)合傳統(tǒng)雙通帶濾波器設(shè)計(jì)理論，提出了幾種適合太赫茲頻段的波導(dǎo)雙通帶濾波器結(jié)構(gòu)。

關(guān)鍵字：太赫茲雙通帶濾波器波導(dǎo)濾波器

1 引言

太赫茲有很多優(yōu)點(diǎn)：高數(shù)據(jù)傳輸率、優(yōu)秀的方向性、更高的安全性、較低的散射、更高的透射比等等。太赫茲通信技術(shù)已經(jīng)成為許多發(fā)達(dá)國(guó)家的研究重點(diǎn)。對(duì)于太赫茲通信系統(tǒng)而言，波導(dǎo)是實(shí)現(xiàn)諸如濾波器，功分器，耦合器等無(wú)源器件的良好媒介。本文研究的太赫茲波導(dǎo)濾波器作為太赫茲通信系統(tǒng)的重要組成部分，有著非常重要的研究意義。

太赫茲技術(shù)通過這幾年的飛速發(fā)展，利用光子晶體或者采用MEMS加工技術(shù)都成功設(shè)計(jì)出了許多太赫茲濾波器，太赫茲通信系統(tǒng)也應(yīng)運(yùn)而生。使用雙通帶濾波器可以配合多通帶收發(fā)機(jī)以及多通帶天線，組成多通帶的通信系統(tǒng)，相比于傳統(tǒng)雙通帶通信系統(tǒng)，它的體積大大降低，可靠性提高，成本降低。太赫茲雙通帶濾波器的研究是一項(xiàng)有著推動(dòng)意義的工作。

2 太赫茲濾波器設(shè)計(jì)關(guān)鍵

太赫茲（Terahertz，1THz=1012Hz）波泛指頻率在0.1～10THz范圍波段內(nèi)的電磁波，介于微波與遠(yuǎn)紅外光之間，其長(zhǎng)波段與亞毫米波重合，短波段與紅外線重合，所以其既有一些微波的性質(zhì)，也符合一些微觀量子論的光學(xué)特征。太赫茲領(lǐng)域的研究也從一開始就分成了電學(xué)、光學(xué)的兩個(gè)方向。本文是從電磁學(xué)的角度，對(duì)太赫茲波段中頻率較低波長(zhǎng)較長(zhǎng)的波段（即頻率范圍100-1000GHz的波段）進(jìn)行分析的。

矩形波導(dǎo)是最早用于微波信號(hào)的傳輸線類型之一，被用于制作從1GHz到超過220GHz波段的大量元件[1]。本文選擇使用矩形波導(dǎo)傳輸線是因?yàn)椋旱谝唬啾扔谄矫鎮(zhèn)鬏斁€，封閉波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的輻射損耗要低得多，可以使濾波器的插損減?。坏诙?，矩形波導(dǎo)是結(jié)構(gòu)最簡(jiǎn)單的波導(dǎo)之一，使用矩形波導(dǎo)設(shè)計(jì)太赫茲濾波器有許多經(jīng)典結(jié)論可以參考，而且矩形波導(dǎo)結(jié)構(gòu)更易加工。

頻率達(dá)到太赫茲波段，電子元件的最大特點(diǎn)就是尺寸大幅縮小。衛(wèi)星數(shù)字廣播常用的Ku波段（12GHz-18GHz）使用的標(biāo)準(zhǔn)波導(dǎo)BJ140內(nèi)截面尺寸為15.799mm×7.899mm，工程上允許偏差范圍為±0.031mm。而太赫茲頻段的第一個(gè)大氣窗口[2]，頻率140GHz的頻段所使用的標(biāo)準(zhǔn)波導(dǎo)BJ1400的內(nèi)截面尺寸為1.651mm×0.8255mm，允許偏差范圍±0.0064mm?？梢?，由于尺寸大幅縮小，太赫茲頻段元件所要求的加工精度將提高數(shù)倍甚至數(shù)十倍之多。

雖然太赫茲元件的加工工藝正在飛速發(fā)展，但是目前的工藝仍然很難達(dá)到很理想的情況，如前文所見，波導(dǎo)內(nèi)截面尺寸精度在太赫茲最低頻段部分就需要將誤差控制在±6um，一些復(fù)雜結(jié)構(gòu)的濾波器內(nèi)部結(jié)構(gòu)所需精度更高，而且這個(gè)數(shù)值還將隨著頻率的升高而升高，所以對(duì)于濾波器結(jié)構(gòu)的選擇與加工技術(shù)有密切的關(guān)系?？梢赃@么說(shuō)，如果加工精度一定，那么追求相對(duì)誤差小的濾波器結(jié)構(gòu)是太赫茲濾波器設(shè)計(jì)的關(guān)鍵。

3幾種合適的雙通帶太赫茲濾波器結(jié)構(gòu)

按經(jīng)典濾波器設(shè)計(jì)理論，微波濾波器是由諧振腔與耦合結(jié)構(gòu)組成的。上文講到要追求較小的相對(duì)誤差，那么濾波器的諧振腔與耦合結(jié)構(gòu)應(yīng)當(dāng)盡量簡(jiǎn)單。

最傳統(tǒng)的E面膜片并聯(lián)電感耦合結(jié)構(gòu)是最容易想到的，采用這種結(jié)構(gòu)的濾波器誤差影響最大的部分是耦合膜片結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)時(shí)可以適當(dāng)增加膜片厚度來(lái)減小誤差的影響，這種濾波器加工比較簡(jiǎn)單，國(guó)內(nèi)已經(jīng)有單位加工并測(cè)試成功了這種結(jié)構(gòu)中心頻率140GHz的單通帶濾波器[3]，圖1（a）為此種結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器結(jié)構(gòu)模型。

一種新型波紋型濾波器在模型上更為簡(jiǎn)單[4]，此種結(jié)構(gòu)利用矩形波導(dǎo)的交錯(cuò)對(duì)接代替了膜片結(jié)構(gòu)產(chǎn)生耦合效果。圖1（b）為這種結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器結(jié)構(gòu)模型。這種結(jié)構(gòu)加工也比較簡(jiǎn)單，而且加工誤差所帶來(lái)的影響更小一些，但是設(shè)計(jì)難度較剛才有所提高。

前面兩種結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器都是兩路單通帶濾波器并聯(lián)的結(jié)構(gòu)，圖1（c）是一種雙模諧振腔雙通帶濾波器結(jié)構(gòu)模型，此結(jié)構(gòu)最早由J. Bornemannd等人提出[5]。此種結(jié)構(gòu)省去了一條濾波器支路和T型傳輸接頭，對(duì)加工誤差敏感度不高，但是加工難度更大，設(shè)計(jì)難度也比上兩種結(jié)構(gòu)高。

（a） （b） （c）

圖1三種雙通帶濾波器結(jié)構(gòu)模型圖

4結(jié)束語(yǔ)

本文分析了太赫茲濾波器的設(shè)計(jì)要點(diǎn)，提出了三種雙通帶太赫茲濾波器結(jié)構(gòu)，并簡(jiǎn)要分析了它們各自的優(yōu)缺點(diǎn)。為了驗(yàn)證以上這些結(jié)構(gòu)，仿真、加工、測(cè)試等等環(huán)節(jié)還需跟上。太赫茲雙通帶濾波器的研究還處在萌芽階段，這個(gè)工作不只需要對(duì)太赫茲雙通帶濾波器理論的研究，還需要依靠加工工藝的更新發(fā)展。

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