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Plasma Processes And Polymers

等離子工藝和聚合物
國際簡稱:PLASMA PROCESS POLYM

Plasma Processes And Polymers

SCIE

按雜志級別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q1 JCR分區(qū)
  • 120 年發(fā)文量
  • 90.83% 研究類文章占比
  • 26.55% Gold OA文章占比
ISSN:1612-8850
創(chuàng)刊時間:2004
是否預警:否
E-ISSN:1612-8869
出版地區(qū):GERMANY
是否OA:未開放
出版語言:English
出版周期:Monthly
影響因子:2.9
出版商:Wiley-VCH Verlag
審稿周期: 約3月
CiteScore:6.6
H-index:63
出版國人文章占比:0.13
開源占比:0.1985
文章自引率:0.1142...

Plasma Processes And Polymers雜志簡介

Plasma Processes And Polymers是由Wiley-VCH Verlag出版商主辦的物理與天體物理領域的專業(yè)學術期刊,自2004年創(chuàng)刊以來,一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(ISSN:1612-8850,E-ISSN:1612-8869),出版周期Monthly,其出版地區(qū)設在GERMANY。該期刊的核心使命旨在推動物理與天體物理專業(yè)及PHYSICS, APPLIED學科界的教育研究與實踐經(jīng)驗的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術論文,提倡學術爭鳴,激發(fā)學術創(chuàng)新,開展國際間學術交流,為物理與天體物理領域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.1142...,開源內(nèi)容占比0.1985,出版撤稿占比0,OA被引用占比0.1201...,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領域愛好者,這些讀者群體來自全球各地,具有廣泛的學術背景和興趣。Plasma Processes And Polymers已被國際權威學術數(shù)據(jù)庫“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學者和研究人員檢索和引用,有助于推動PHYSICS, APPLIED領域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:6.6
  • SJR:0.562
  • SNIP:0.867
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 85 / 434

80%

大類:Physics and Astronomy 小類:Polymers and Plastics Q2 42 / 161

74%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估,打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個學科領域,從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標準化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標,幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Plasma Processes And Polymers中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 POLYMER SCIENCE 高分子科學 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) POLYMER SCIENCE 高分子科學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) POLYMER SCIENCE 高分子科學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 2區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 POLYMER SCIENCE 高分子科學 3區(qū) 3區(qū) 2區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) POLYMER SCIENCE 高分子科學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) POLYMER SCIENCE 高分子科學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 68 / 179

62.3%

學科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 34 / 79

57.6%

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 7 / 40

83.8%

學科:POLYMER SCIENCE SCIE Q2 42 / 94

55.9%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 67 / 179

62.85%

學科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 26 / 79

67.72%

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 16 / 40

61.25%

學科:POLYMER SCIENCE SCIE Q2 32 / 94

66.49%

JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫,按照期刊的影響因子進行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個學科,每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 116
2015 131
2016 116
2017 127
2018 119
2019 92
2020 174
2021 107
2022 127
2023 120

期刊互引關系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
PLASMA PROCESS POLYM 427
J PHYS D APPL PHYS 213
PLASMA SOURCES SCI T 132
IEEE T PLASMA SCI 115
APPL SURF SCI 109
MATERIALS 105
THIN SOLID FILMS 101
PLASMA CHEM PLASMA P 97
SURF COAT TECH 95
SCI REP-UK 86
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
PLASMA PROCESS POLYM 427
J PHYS D APPL PHYS 297
PLASMA SOURCES SCI T 165
J VAC SCI TECHNOL A 115
APPL PHYS LETT 107
J APPL PHYS 100
SURF COAT TECH 100
PLASMA CHEM PLASMA P 79
SCI REP-UK 71
IEEE T PLASMA SCI 67
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